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    EDI超純水系統

    產品類別:反滲透設備系列

    發布日期:2020-11-18

    責任編輯:魯東環保

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    186-1558-1926
    產品介紹

    超純水系統,EDI超純水系統, 混床超純水系統出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18.2MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

    超純水系統超純水制備技術發展史:

    超純水系統第一代:預處理 -陽床-陰床-混床

    超純水系統第二代:預處理 -反滲透-混床

    超純水系統第三代:預處理 -反滲透-電去離子(EDI)

    陽床-陰床-混床離子交換設備:

    離子交換設備是利用陰、陽離子交換樹脂的交換吸附性能,去除水中的各種陰、陽離子,達到去離子的目的,離子交換設備按單臺設備分類,可分為陰床、陽床、混床。在水處理應用中,由陽床、陰床單組或陣列裝置而成,后置混合離子交換器,能得到更高純度的産出水,具有投資節省、工業成熟等特點。離子交換設備是制備高純水的必要設備,廣泛應用于電子、電鍍、鍋爐用水等領域,與RO、EDI設備組合后水質的電阻率可達到18.2MΩ.CM.

    反滲透+EDI超純水設備:

    反滲透裝置去除水中的溶解性鹽類物質、細菌、熱源等,然后使用連續電除鹽裝置進行深度脫鹽,使産水電阻率達到15MΩ.cm以上,再采用電子級純水樹脂精混床精除鹽,使産水電阻率達到18.2MΩ.cm,后處理采用紫外線殺菌器和精密過濾器隔絕細菌的二次污染,産水可達到國家電子級水的技術指標GB 11446.1-1997。

    新興的光電材料生產、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

    超純水系統,EDI超純水系統, 混床超純水系統應用場合:

    ☆電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

    ☆電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

    ☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

    ☆ 黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

    ☆液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

    ☆晶體管生產中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制

    ☆ 集成電路生產中高純水清洗硅片

    ☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

    ☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

    ☆高品質顯像管、螢光粉生產

    ☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

    ☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

    ☆實驗室和中試車間  

    ☆汽車、家電表面拋光處理

    ☆光電產品、其他高科技精微產品

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